山林錦翠色，草木吐清芳，蟬鳴穿竹徑，暑氣伴風藏。
即便夏日山林里滿是清涼，也吹不散科研基地里緊張的節(jié)奏。
尤其是黎洛嶼，自從項目正式啟動之后，她的日子過的相當忙碌，一天的時間恨不得能分出八瓣兒來。
尤其是項目剛啟動前期，各種問題扎堆冒頭，黎洛嶼連坐下來喝杯熱水的時間都沒有。
早上七點開始，一上午一輪各科研室前一日遇到的各種技術卡點、算法優(yōu)化困難、數(shù)據(jù)處理難題、理論模型沖突分析等輪番的緊急技術攻堅問題解答。
黎洛嶼就就這么淡定的坐在會議室內(nèi)，手邊放著一個搪瓷缸子，身后是一塊超級大的白板，方便她寫寫畫畫。
“夏總工，我們的衛(wèi)星供電模塊遇到技術卡點，按設計方案，鋰電池在低溫環(huán)境下的續(xù)航能力應該能維持 8小時，可實際測試只能撐 5小時，反復換了電芯、調(diào)整了電路，結果還是一樣，不知道問題出在哪？”
黎洛嶼接過實驗記錄，快速翻到低溫測試的數(shù)據(jù)頁，手指停在“環(huán)境溫度- 20℃”的標注上，隨即走到白板前畫下電池的內(nèi)部結構：“問題不在電芯或電路，是你們忽略了低溫下電解液的離子遷移速率。-20℃時電解液黏度會升高，離子移動變慢，導致放電效率下降。你讓團隊在電池外殼加一層超薄的柔性加熱膜，設定溫度低于- 15℃時自動啟動，維持電解液在最佳工作溫度區(qū)間，再把放電保護電壓從 微調(diào)至 ，這樣續(xù)航應該能達標，下午就能做測試驗證。”
問：“基材在低溫測試時導電性下降嚴重，不知道問題出在哪。”
答：“這里的金屬元素配比可能需要微調(diào)，我讓新材料實驗室的團隊下午送幾組調(diào)整后的樣品過來。”
問：“夏總工，我們的耐高溫合金遇到了理論模型沖突分析的問題——按現(xiàn)有合金理論模型，添加 5%的鈦元素能提升 20%的耐溫性，但實際測試只提升了 8%，模型和實驗結果對不上，不知道哪里錯了？”
黎洛嶼走到白板前，畫出合金的微觀結構示意圖：“你們忽略了鈦元素和基體金屬的晶界擴散問題。理論模型假設元素均勻分布，但實際熔煉時，鈦會在晶界聚集，反而影響耐溫性。調(diào)整熔煉溫度，在 1200℃時保溫 30分鐘，促進元素均勻擴散，再測一次，結果應該能貼近模型預期，我把調(diào)整后的熔煉參數(shù)表發(fā)給你。”
“夏總工，我們的信號接收模塊有技術卡點，接收靈敏度達不到北斗衛(wèi)星的要求，排查了天線、電路，都沒找到問題，您能幫忙看看嗎？”
黎洛嶼接過模塊圖紙，指著信號放大電路：“這里的放大器偏置電壓不對。靈敏度低是因為偏置電壓沒落在最佳工作點，導致信號放大時噪聲疊加。把偏置電壓從 調(diào)到 ，再搭配低噪聲電阻，靈敏度能提升 15dB，剛好滿足要求，你們現(xiàn)在就能拆模塊調(diào)整，上午就能復測。”
一整個上午，會議室的門開了又關，各實驗室的人來了一波又一波，黎洛嶼始終淡定地坐在椅子上，要么在白板上推演方案，要么接過設備參數(shù)表快速計算，搪瓷缸子被來人碰倒了好幾次，她都只是隨手扶起來，目光從沒離開過問題核心。
中午就隨意扒拉兩口飯，各科室就各忙活自已的項目。而黎洛嶼則進入自已的獨立實驗室忙活自已的事情。
晚上想起來了，扒拉兩口飯，想不起來了，就在實驗室里繼續(xù)泡著。
黎洛嶼把科研攻克最難的部分分給了自已：光刻機。
為什么是她自已主攻這個項目呢，那是因為，光刻機是芯片研發(fā)的“卡脖子”核心設備。
要知道，不管是北斗衛(wèi)星的導航芯片還是計算機項目的核心處理器，都得靠光刻機才能生產(chǎn)，要是沒有這個設備，那這兩個項目就全成了“空中樓閣”。
現(xiàn)下的別說國內(nèi)連臺能做精密加工的普通機床都得靠進口，更別說光刻機這種能刻出微米級電路的“國之重器”了，國外這會兒也都還沒有摸到光刻機研發(fā)的門檻呢。
要研發(fā)光刻機最難的技術問題，首當其沖的是光學系統(tǒng)的精密適配。
光刻機刻蝕電路依賴的“光刀”，不僅需要穩(wěn)定的能量輸出，更要通過多組鏡片實現(xiàn)光束聚焦與路徑校準。
當前壓根沒有高精度光學加工設備，實驗室里的鏡片要么是從舊相機、望遠鏡里拆的二手貨，要么是機修組用手工研磨的簡易鏡片，表面平整度誤差常超過 5微米，遠達不到光刻要求的 0.5微米標準。
其次是光刻膠的自主研發(fā)。
光刻時需要在硅片表面涂覆光刻膠，光束照射后，光刻膠會發(fā)生化學變化，再通過顯影、蝕刻形成電路圖案。
可當時國內(nèi)沒有專用光刻膠，只能用進口的普通感光膠替代，這種膠敏感度極低，要么曝光不足導致電路圖案模糊，要么曝光過度讓膠層開裂。所以，沒有適配的光刻膠，也就無法穩(wěn)定刻蝕電路。
最后是多環(huán)節(jié)的協(xié)同同步。
光刻不是“刻完就完”，從硅片清洗、涂膠，到光束刻蝕、顯影蝕刻，每個環(huán)節(jié)都要精準銜接。
比如涂膠厚度需控制在 3微米以內(nèi)，厚了會導致顯影不徹底，薄了又會讓電路刻穿；顯影時間差 10秒，就可能讓圖案邊緣殘缺。
而之所以是她自已獨立挑下光刻機研發(fā)的重擔，是因為她有雷系異能和精神力。
這兩種特殊能力，恰好可以輔助她快速完成技術攻堅。
雷系異能可以精準控制能量輸出，模擬光刻機所需的高能光束。
普通設備要產(chǎn)生刻蝕電路的光束，得靠復雜的光學系統(tǒng)和能量供給裝置，可基地里壓根沒有這種精密設備，因此黎洛嶼的雷系異能就成了“天然能量源”。
她能將雷電能量壓縮成極細的光束，能量強度能精確到毫焦級別，剛好滿足微米級電路的刻蝕需求。
若是遇到光束偏移的問題，她還能靠異能微調(diào)能量軌跡，比機械裝置的響應速度快上百倍，省去了反復調(diào)試設備的時間。
若是光刻機刻蝕電路時，哪怕鏡片有微米級的偏移、光束能量有一絲波動，都會導致電路報廢。
而黎洛嶼的精神力能拆分成成千上萬道細微的“探針”，一道盯著光束能量變化，一道監(jiān)測鏡片位置，還有幾道專門校準電路圖案的精度，任何微小偏差都逃不過她的感知。
因此，光刻機的研發(fā)，于黎洛嶼而言，并不復雜，無外乎就是耗費精神，透支點兒雷系異能罷了。